三菱電機は3月19日、100Gbpsの高速光通信用「25Gbps光通信用DFBレーザ―」を開発したと発表した。
　
　同社は今回、高速応答性を損なうことなく、発光層に効率良く電流注入できる低容量電流狭窄層を開発。従来製品に比べて発光層への電力注入効率を約12%改善し、高温時(+85℃)でも10mW以上の高い光出力を実現した。高温動作が可能となったためデバイスの冷却が不要となり、光通信機器の低消費電力化につなげることができる。また、合波時に生じる光損失を補うことができる高光出力を実現したことで、異なる4波長の25Gbps DFBレーザー光を合波する100Gbps光通信用集積型TOSAの高性能化に寄与する。
　
　この低用量電流狭窄層の開発とDFBレーザー部分を従来比75%縮小したことで、広い動作温度範囲(-20℃～+85℃)で業界トップレベルの高品質な変調波形(マスクマージン20%以上)を実現した。さらに、レーザー駆動回路設計の調節が容易となり、光通信機器の設計をよりシンプルにすることができるようになる。
　
　同社は今後、光通信機器の高密度実装化・低消費電力化に対応するため、動作温度範囲のさらなる拡大と、電流から光への変換効率の向上を図っていくとしている。